((Traduction automatisée par Reuters, veuillez consulter la clause de non-responsabilité https://bit.ly/rtrsauto))
(Ajout des détails de la machine et du contexte du paragraphe 3)
ASML ASML.AS , le plus grand fabricant d'équipements utilisés pour la fabrication de semi-conducteurs, a annoncé lundi l'ouverture d'un laboratoire d'essai pour son équipement de lithographie EUV High NA, en collaboration avec la société belge Imec, spécialisée dans la recherche sur les puces.
Le laboratoire de Veldhoven, aux Pays-Bas, en gestation depuis des années , permettra aux principaux fabricants de puces et autres fournisseurs d'équipements et de matériaux de travailler rapidement avec l'outil de 350 millions d'euros (380 millions de dollars), le premier de ce type .
ASML domine le marché des équipements de lithographie, une étape centrale du processus de fabrication des puces, au cours de laquelle des faisceaux de lumière sont utilisés pour créer les circuits des puces.
Parmi les fabricants de puces, seuls TSMC, Samsung, Intel et les spécialistes de la mémoire SK Hynix et Samsung sont en mesure de fabriquer des puces à l'aide de la génération actuelle de machines à ultraviolet extrême (EUV) d'ASML.
Le nouvel outil High NA permet d'améliorer la résolution de 60 % et devrait conduire à de nouvelles générations de puces plus petites et plus rapides.
ASML a répété lundi qu'elle s'attendait à ce que les clients commencent la fabrication commerciale avec l'outil en 2025-2026.
À ce jour, ASML n'a livré qu'une seule autre machine de test , à Intel aux États-Unis, qui prévoit d'utiliser l'outil dans son processus 14A en 2025.
ASML a des commandes pour plus d'une douzaine de machines, bien que TSMC, son plus gros client pour l'équipement EUV, ait déclaré qu'il n'avait pas besoin de pour utiliser les outils High NA pour ses puces A16, qui devraient entrer en production en 2025.
(1 dollar = 0,9223 euro)
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