((Traduction automatisée par Reuters à l'aide de l'apprentissage automatique et de l'IA générative, veuillez vous référer à l'avertissement suivant: https://bit.ly/rtrsauto)) par Max A. Cherney
Intel INTC.O a décidé d’utiliser une machine haut de gamme d’ASML pour fabriquer certaines de ses puces phares Panther Lake destinées aux ordinateurs portables, a annoncé ASML mardi. Cette initiative permettra au fabricant de puces d’apprendre à utiliser cet outil plus efficacement.
À la suite d’expérimentations lancées en 2024, Intel a commencé à utiliser les machines d'ASML de nouvelle génération à haute ouverture numérique (High NA) à ultraviolet extrême (EUV), qui impriment des motifs de circuits sur des micropuces, afin de contribuer à la production d’une partie de ses puces Panther Lake, a précisé ASML.
Le secteur s’est longuement demandé à partir de quel moment il serait économiquement viable de commencer à déployer ces outils à haute NA, dont les fabricants de puces auront probablement besoin à l’avenir, à mesure qu’ils continuent à réduire la taille des éléments atomiques qui composent les puces.
Cet équipement à haute NA coûte environ 400 millions de dollars, soit deux fois plus qu’une machine EUV standard. Son intégration dans les processus de production représente également un défi technique.
Intel utilise l’outil à haute NA pour des couches spécifiques de la puce, ce qui aidera Intel et ASML à collecter des données et à optimiser l’équipement.
Intel n’a pas souhaité commenter cette annonce.
L’entreprise utilise son procédé de fabrication 18A pour produire les puces Panther Lake et utilise déjà les machines de lithographie EUV standard d’ASML à cette fin. La lithographie est le processus consistant à utiliser la lumière pour tracer les motifs complexes qui composent les circuits d’une puce.
Intel a reçu son premier outil High NA en 2024 sur son site de recherche et développement de Hillsboro, dans l’Oregon, où la société développe ses nouvelles techniques et technologies de fabrication.
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