Aller au contenu principal
Fermer
  2. Aide
  2. Aide

ASML atteint le stade de la "première lumière" sur le premier outil EUV High NA
information fournie par Reuters 28/02/2024 à 12:38

((Traduction automatisée par Reuters, veuillez consulter la clause de non-responsabilité https://bit.ly/rtrsauto))

(Ajoute le contexte technologique et industriel aux paragraphes 4-7, le porte-parole au paragraphe 8)

ASML ASML.AS a atteint la "première lumière" sur son nouveau système massif de lithographie EUV High NA, a confirmé mercredi le fabricant néerlandais d'équipements pour semi-conducteurs, une étape importante qui signifie que l'outil fonctionne, même s'il n'atteint pas sa pleine performance.

La responsable du développement technologique chez Intel,

INTC.O Ann Kelleher, a mentionné pour la première fois ces progrès lors d'un exposé à la conférence sur la lithographie SPIE qui s'est tenue mardi à San Jose.

ASML a confirmé que les remarques de Mme Kelleher étaient exactes.

Les systèmes de lithographie utilisent des faisceaux lumineux focalisés pour aider à créer les minuscules circuits des puces électroniques. Les outils EUV High NA d'ASML, qui ont la taille d'un bus à deux étages et coûtent plus de 350 millions de dollars chacun, devraient permettre de créer de nouvelles générations de puces plus petites et plus rapides.

Le premier outil High NA existant se trouve dans le laboratoire d'ASML à Veldhoven, aux Pays-Bas, et le second est en cours d'assemblage dans une usine d'Intel près de Hillsboro, dans l'Oregon.

Les fabricants de puces avancés, dont TSMC et Samsung, devraient adopter l'outil dans les cinq années à venir, et Intel a déclaré lors d'un événement la semaine dernière qu'il avait l'intention d'utiliser l'outil en production pour sa génération de puces 14A.

Dans son exposé, Mme Kelleher a déclaré que la machine de Veldhoven avait vu la "première lumière sur une plaquette en résistance", ce qui signifie que la machine a été utilisée pour un test sur une plaquette de silicium qui a été traitée avec des produits chimiques sensibles à la lumière afin qu'elle soit prête à recevoir un schéma de circuit.

Un porte-parole d'ASML a déclaré que la première étape de la lumière avait été atteinte "très récemment".

Valeurs associées

ASML HLDG
1 201,600 EUR Euronext Amsterdam 0,00%
INTEL
44,0600 USD NASDAQ +0,11%
© 2026 Thomson Reuters. All rights reserved. Reuters content is the intellectual property of Thomson Reuters or its third party content providers. Any copying, republication or redistribution of Reuters content, including by framing or similar means, is expressly prohibited without the prior written consent of Thomson Reuters. Thomson Reuters shall not be liable for any errors or delays in content, or for any actions taken in reliance thereon. "Reuters" and the Reuters Logo are trademarks of Thomson Reuters and its affiliated companies.

0 commentaire

Signaler le commentaire

Fermer

A lire aussi

Mes listes

Cette liste ne contient aucune valeur.
Chargement...

Pages les plus populaires

L'offre BoursoBank