((Traduction automatisée par Reuters, veuillez consulter la clause de non-responsabilité https://bit.ly/rtrsauto))
(Ajoute le contexte technologique et industriel aux paragraphes 4-7, le porte-parole au paragraphe 8)
ASML ASML.AS a atteint la "première lumière" sur son nouveau système massif de lithographie EUV High NA, a confirmé mercredi le fabricant néerlandais d'équipements pour semi-conducteurs, une étape importante qui signifie que l'outil fonctionne, même s'il n'atteint pas sa pleine performance.
La responsable du développement technologique chez Intel,
INTC.O Ann Kelleher, a mentionné pour la première fois ces progrès lors d'un exposé à la conférence sur la lithographie SPIE qui s'est tenue mardi à San Jose.
ASML a confirmé que les remarques de Mme Kelleher étaient exactes.
Les systèmes de lithographie utilisent des faisceaux lumineux focalisés pour aider à créer les minuscules circuits des puces électroniques. Les outils EUV High NA d'ASML, qui ont la taille d'un bus à deux étages et coûtent plus de 350 millions de dollars chacun, devraient permettre de créer de nouvelles générations de puces plus petites et plus rapides.
Le premier outil High NA existant se trouve dans le laboratoire d'ASML à Veldhoven, aux Pays-Bas, et le second est en cours d'assemblage dans une usine d'Intel près de Hillsboro, dans l'Oregon.
Les fabricants de puces avancés, dont TSMC et Samsung, devraient adopter l'outil dans les cinq années à venir, et Intel a déclaré lors d'un événement la semaine dernière qu'il avait l'intention d'utiliser l'outil en production pour sa génération de puces 14A.
Dans son exposé, Mme Kelleher a déclaré que la machine de Veldhoven avait vu la "première lumière sur une plaquette en résistance", ce qui signifie que la machine a été utilisée pour un test sur une plaquette de silicium qui a été traitée avec des produits chimiques sensibles à la lumière afin qu'elle soit prête à recevoir un schéma de circuit.
Un porte-parole d'ASML a déclaré que la première étape de la lumière avait été atteinte "très récemment".
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