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ASML atteint le stade de la "première lumière" sur le premier outil EUV High NA
information fournie par Reuters 28/02/2024 à 12:22

((Traduction automatisée par Reuters, veuillez consulter la clause de non-responsabilité https://bit.ly/rtrsauto))

ASML ASML.AS a atteint la "première lumière" sur son nouveau système massif de lithographie EUV High NA, a confirmé mercredi le fabricant néerlandais d'équipements pour semi-conducteurs, une étape importante qui signifie que l'outil fonctionne, mais pas à pleine performance.

La responsable du développement technologique chez Intel,

INTC.O Ann Kelleher, a mentionné pour la première fois ces progrès lors d'un exposé à la conférence sur la lithographie SPIE qui s'est tenue mardi à San Jose.

ASML a confirmé que les remarques de Mme Kelleher étaient exactes.

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