Iraniens condamnés au Kenya pour usage de faux papiers israéliens

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NAIROBI, 1er octobre (Reuters) - La justice kenyane a condamné à deux ans de prison ou à une lourde amende deux Iraniens qui avaient plaidé coupables d'être entrés dans le pays, en septembre, avec de faux passeports israéliens. La police antiterroriste kenyane, qui les soupçonnait de préparer un attentat au Kenya, avait arrêté ces deux Iraniens - un homme et une femme - alors qu'ils s'apprêtaient à embarquer à l'aéroport de Nairobi, le 18 septembre, à bord d'un avion pour la Belgique. Les services de sécurité du Kenya sont en état d'alerte depuis les fusillades et attaques à la grenade qui ont fait suite au massacre de 67 personnes par un groupe d'islamistes dans le centre commercial de Westgate à Nairobi en septembre 2013. Deux Iraniens avaient été condamnés à la réclusion à perpétuité en mai dernier par la justice kenyane pour avoir projeté des attentats à Nairobi et dans d'autres villes du pays. Ils ont fait appel et le nouveau jugement est attendu le 14 octobre. (Humphrey Malalo; Eric Faye pour le service français)

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