Applied Materials et Tokyo Electron renoncent à leur fusion

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(Actualisé avec communiqué, contexte) TOKYO, 27 avril (Reuters) - Applied Materials AMAT.O et Tokyo Electron 8035.T ont annoncé lundi l'abandon de leur projet de fusion, une opération qui aurait pu dépasser les 10 milliards de dollars, en raison des problèmes de concurrence soulevés par les autorités américaines. L'américain Applied Materials, leader mondial des équipementiers pour l'industrie des semi-conducteurs, et son concurrent japonais, numéro trois du secteur, avaient décidé en septembre 2013 de fusionner via un échange d'actions pour faire face au ralentissement de la demande pour leurs produits et aux difficultés croissantes de dégager des bénéfices dans le secteur. Ils ont renoncé à ce projet après avoir été informés par le département américain de la Justice (DoJ) que leurs propositions pour mener à bien ce rapprochement ne suffiraient pas à compenser l'affaiblissement de la concurrence généré par cet éventuel mariage. "A partir de la position exprimée par le DoJ, Applied Materials et Tokyo Electron ont déterminé qu'il n'y avait pas de perspective réaliste pour la concrétisation de leur fusion", déclare Applied Materials dans un communiqué. Les deux parties se sont entendues pour ne verser aucune pénalité et elles vont toutes deux lancer des programmes de rachat d'actions. Applied Materials, Tokyo Electron et le néerlandais ASML Holding ASML.AS sont les trois principaux acteurs d'une industrie qui s'est engagée dans un processus de consolidation, via des alliances et des acquisitions, en raison de la hausse de ses coûts, liés au développement d'une technologie de pointe, et du ralentissement de la demande pour les semi-conducteurs. La plupart des fabricants américains de puces électroniques ont réduit ou gelé une partie de leurs capacités de production et ont externalisé certaines activités vers des fournisseurs asiatiques comme Taiwan Semiconductor Manufacturing 2330.TW , ce qui a contribué à réduire la clientèle d'Applied Materials. (Chang-Ran Kim; Bertrand Boucey pour le service français, édité par Véronique Tison)


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